Diagnóstico de plasma de cátodo oco: análise da ação de plasma de argônio e Ar-H2 para a deposição de filmes finos de titânio em pós-descarga
Plasma DC hollow cathode has been used for film deposition by sputtering with release of neutral atoms from the cathode. The DC Plasma Ar-H2 hollow cathode currently used in the industry has proven to be effective in cleaning surfaces and thin film deposition when compared to argon plasma. When we w...
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| Formato: | Dissertação |
| Idioma: | por |
| Publicado: |
Universidade Federal do Rio Grande do Norte
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| Assuntos: | |
| Acceso en liña: | https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/15706 |
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