ESTUDO DE DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS EM PLASMAS DE AR/AR-H2 EM REGIÕES DE PÓS-DESCARGA DE CATODO OCO
O Plasma DC de catodo oco vem sendo utilizado para a deposição de filmes finos através de sputtering com liberação de átomos neutros do catodo. O Plasma DC de Ar-H2 de catodo oco usado atualmente na indústria tem demonstrado ser mais eficiente na limpeza de superfícies e deposição de filmes finos qu...
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| Formato: | Online |
| Idioma: | por |
| Publicado em: |
Pró-Reitoria de Pesquisa (PROPESQ) e Pró-Reitoria de Extenção (PROEX)
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| Endereço do item: | https://periodicos.ufrn.br/reb/article/view/7253 |
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