Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para deposição de filmes finos por descarga em cátodo oco/

Resumo:Filmes finos de TiO2 foram depositados sobre substrato de silício usando descarga em cátodo oco. A presente técnica foi usada como alternativa a outras técnicas como sol-gel, PECVD, dip-coating e magnetron sputtering. O sistema desenvolvido apresenta uma configuração de cátodo oco cilíndrico...

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Detalhes bibliográficos
Principais autores: Araújo, Francisco Odolberto de., Alves Júnior, Clodomiro., Costa, José Alzamir Pereira da.
Formato: Tese
Publicado em:
Assuntos:
Filmes finos -
Tese.
Substratos de silício -
Cátodo oco -
Gaiola ionizante -
Nitretação a plasma em tela ativa (ASPN) -
Solgel -
PECVD -
Films.
Silicon substrates.
Holloow cathode.
Ionizing cage.
Active screen plasma nitriding (ASPN).
Endereço do item:https://app.bczm.ufrn.br/home/#/item/92567
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