Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para deposição de filmes finos por descarga em cátodo oco/
Resumo:Filmes finos de TiO2 foram depositados sobre substrato de silício usando descarga em cátodo oco. A presente técnica foi usada como alternativa a outras técnicas como sol-gel, PECVD, dip-coating e magnetron sputtering. O sistema desenvolvido apresenta uma configuração de cátodo oco cilíndrico...
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| Formato: | Tese |
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