Limpeza a plasma para melhorar a adesão superficial de filmes de óxidos de titânio

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Surface modification requires a very clean substrate to increase surface energy and improve adherence of the layer formed on the substrate. Techniques with plasma as the energy source are increasingly being employed. This study used plasma produced in hollow cathode discharge in different atmosphere...

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Detalhes bibliográficos
Principais autores:	Silva, Marco Aurélio Medeiros da, Coutinho, Karilany Dantas, Wanderley, Caroline Dantas Vilar, Guerra, Paulo Victor de Azevedo
Formato:	article
Idioma:	pt_BR
Publicado em:	Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde
Assuntos:	Limpeza a plasma Implante dental Oxidação Descontaminação de Ti
Endereço do item:	https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/29647
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spelling	ri-123456789-296472020-07-19T07:45:28Z Limpeza a plasma para melhorar a adesão superficial de filmes de óxidos de titânio Silva, Marco Aurélio Medeiros da Coutinho, Karilany Dantas Wanderley, Caroline Dantas Vilar Guerra, Paulo Victor de Azevedo Limpeza a plasma Implante dental Oxidação Descontaminação de Ti Surface modification requires a very clean substrate to increase surface energy and improve adherence of the layer formed on the substrate. Techniques with plasma as the energy source are increasingly being employed. This study used plasma produced in hollow cathode discharge in different atmospheres in order to study its influence on depassivation of the titanium surface. Six 10 x10 x 1 mm. Ti plates (grade II) were used. These samples were divided into three groups for plasma cleaning in hollow cathode in an atmosphere of Air, H2 and Air/H2 (50-50%) at a pressure of around 0.7 mbar and temperature of 200°C for 20 and 60 minutes, followed by plasma oxidation at 500°C for 1 hour, with 10% O2 content at a pressure of 2.2 mbar. After oxidation, the samples were assessed by analyzing the contact angle using the sessile drop technique (wettability), x-ray diffraction (XRD) analysis and surface roughness O tratamento para modificação superficial requer um substrato com alto grau de limpeza, a fim de promover um aumento da energia superficial e melhorar a adesão da camada formada ao substrato. Técnicas que estão em crescente uso possuem geralmente o plasma como fonte energética. Nesse trabalho, utilizou-se o plasma produzido em descarga por cátodo oco, com diferentes atmosferas, a fim de estudar a sua influência na despassivação da superfície de titânio. Foram utilizadas 06 placas de Ti cp (grau II), de tamanho 10 x 10 x 1 mm. Estas amostras foram divididas em três grupos para limpeza a plasma em catodo oco com atmosfera de Ar, H2 e Ar/H2 (50-50%) a pressão em torno de 0,7 mbar e temperatura de 200°C nos tempos de 20 e 60 minutos e seguido uma condição de oxidação a plasma a 500oC por 1 hora, com teor 10 % de O2 numa pressão de 2,2 mbar. Após oxidação as amostras foram submetidas à avaliação através de análise de ângulo de contato pela técnica da gota séssil (molhabilidade), análise por difração de raios-X (DRX) e rugosidade 2020-07-15T14:45:58Z 2020-07-15T14:45:58Z 2013 article SILVA, M.A.M.; COUTINHO, K.D.; GUERRA, P.V.A; WANDERLEY, C.D.V.. Limpeza a plasma para melhorar a adesão superficial de filmes de óxidos de titânio. Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde, v. 1, p. 38, 2013. Disponível em: https://periodicos.ufrn.br/reb/article/view/3392. Acesso em: 14 jul. 2020.https://doi.org/10.18816/r-bits.v2i4.3392 2236-1103 https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/29647 10.18816/r-bits.v2i4.3392 pt_BR application/pdf Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde
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description	Surface modification requires a very clean substrate to increase surface energy and improve adherence of the layer formed on the substrate. Techniques with plasma as the energy source are increasingly being employed. This study used plasma produced in hollow cathode discharge in different atmospheres in order to study its influence on depassivation of the titanium surface. Six 10 x10 x 1 mm. Ti plates (grade II) were used. These samples were divided into three groups for plasma cleaning in hollow cathode in an atmosphere of Air, H2 and Air/H2 (50-50%) at a pressure of around 0.7 mbar and temperature of 200°C for 20 and 60 minutes, followed by plasma oxidation at 500°C for 1 hour, with 10% O2 content at a pressure of 2.2 mbar. After oxidation, the samples were assessed by analyzing the contact angle using the sessile drop technique (wettability), x-ray diffraction (XRD) analysis and surface roughness
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