Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco
In the present work we use a plasma jet system with a hollow cathode to deposit thin TiO2 films on silicon substrates as alternative at sol-gel, PECVD, dip-coating e magnetron sputtering techniques. The cylindrical cathode, made from pure titanium, can be negatively polarized between 0 e 1200 V and...
Kaydedildi:
Yazar: | |
---|---|
Diğer Yazarlar: | |
Materyal Türü: | doctoralThesis |
Dil: | por |
Baskı/Yayın Bilgisi: |
Universidade Federal do Rio Grande do Norte
|
Konular: | |
Online Erişim: | https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/16640 |
Etiketler: |
Etiketle
Etiket eklenmemiş, İlk siz ekleyin!
|