Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco
In the present work we use a plasma jet system with a hollow cathode to deposit thin TiO2 films on silicon substrates as alternative at sol-gel, PECVD, dip-coating e magnetron sputtering techniques. The cylindrical cathode, made from pure titanium, can be negatively polarized between 0 e 1200 V and...
Sparad:
Huvudupphovsman: | |
---|---|
Övriga upphovsmän: | |
Materialtyp: | doctoralThesis |
Språk: | por |
Publicerad: |
Universidade Federal do Rio Grande do Norte
|
Ämnen: | |
Länkar: | https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/16640 |
Taggar: |
Lägg till en tagg
Inga taggar, Lägg till första taggen!
|