Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco
In the present work we use a plasma jet system with a hollow cathode to deposit thin TiO2 films on silicon substrates as alternative at sol-gel, PECVD, dip-coating e magnetron sputtering techniques. The cylindrical cathode, made from pure titanium, can be negatively polarized between 0 e 1200 V and...
שמור ב:
| מחבר ראשי: | |
|---|---|
| מחברים אחרים: | |
| פורמט: | doctoralThesis |
| שפה: | por |
| יצא לאור: |
Universidade Federal do Rio Grande do Norte
|
| נושאים: | |
| גישה מקוונת: | https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/16640 |
| תגים: |
הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
|