Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco

In the present work we use a plasma jet system with a hollow cathode to deposit thin TiO2 films on silicon substrates as alternative at sol-gel, PECVD, dip-coating e magnetron sputtering techniques. The cylindrical cathode, made from pure titanium, can be negatively polarized between 0 e 1200 V and...

Disgrifiad llawn

Wedi'i Gadw mewn:
Manylion Llyfryddiaeth
Prif Awdur: Araújo, Francisco Odolberto de
Awduron Eraill: Alves Júnior, Clodomiro
Fformat: doctoralThesis
Iaith:por
Cyhoeddwyd: Universidade Federal do Rio Grande do Norte
Pynciau:
Filmes finos
Substrato de silício
Cátodo oco
Processo sol-gel
Gaiola ionizante
Films
Silicon substrates
Hollow cathode
Sol-gel process
Ionizing cage
CNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA
Mynediad Ar-lein:https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/16640
Tagiau: Ychwanegu Tag
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Rhyngrwyd

https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/16640

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