Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco
In the present work we use a plasma jet system with a hollow cathode to deposit thin TiO2 films on silicon substrates as alternative at sol-gel, PECVD, dip-coating e magnetron sputtering techniques. The cylindrical cathode, made from pure titanium, can be negatively polarized between 0 e 1200 V and...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রধান লেখক: | |
|---|---|
| অন্যান্য লেখক: | |
| বিন্যাস: | doctoralThesis |
| ভাষা: | por |
| প্রকাশিত: |
Universidade Federal do Rio Grande do Norte
|
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/16640 |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|