Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco
In the present work we use a plasma jet system with a hollow cathode to deposit thin TiO2 films on silicon substrates as alternative at sol-gel, PECVD, dip-coating e magnetron sputtering techniques. The cylindrical cathode, made from pure titanium, can be negatively polarized between 0 e 1200 V and...
Shranjeno v:
Glavni avtor: | |
---|---|
Drugi avtorji: | |
Format: | doctoralThesis |
Jezik: | por |
Izdano: |
Universidade Federal do Rio Grande do Norte
|
Teme: | |
Online dostop: | https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/16640 |
Oznake: |
Označite
Brez oznak, prvi označite!
|
Komentirajte kot prvi!