Influência dos parâmetros de processo na deposição de nitreto de titânio por plasma em gaiola catódica

Titanium nitride films were grown on glass using the Cathodic Cage Plasma Deposition technique in order to verify the influence of process parameters in optical and structural properties of the films. The plasma atmosphere used was a mixture of Ar, N2 and H2, setting the Ar and N2 gas flows at 4...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Tác giả chính: Daudt, Natalia de Freitas
Tác giả khác: Alves Júnior, Clodomiro
Định dạng: Dissertação
Ngôn ngữ:por
Được phát hành: Universidade Federal do Rio Grande do Norte
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/12735
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!