Adaptação de um sistema de nitretação por plasma DC para a obtenção de filmes finos de nitreto de silício /
Na minha lista:
Principais autores: | Miranda Filho, Francisco de Assis., Costa, José Alzamir Pereira da., Universidade Federal do Rio Grande do Norte. |
---|---|
Formato: | Dissertação |
Publicado em: |
|
Assuntos: | |
Endereço do item: | https://app.bczm.ufrn.br/home/#/item/37047 |
Tags: |
Adicionar Tag
Sem tags, seja o primeiro a adicionar uma tag!
|
Registros relacionados
-
Características elétricas de um plasma dc e pulsado usado na nitretação iônica/
por: Ribeiro, Pedro dos Remédios, et al.
Publicado em: (2022) -
Desenvolvimento de um sistema de nitretação por plasma em fonte pulsada e sua influência sobre nitretação do titânio /
por: Oliveira, José Antônio Bernardino de., et al.
Publicado em: (2022) -
Nitretação por plasma de peças com furos/
por: Sousa, Roberto Silva de, et al.
Publicado em: (2022) -
Influência dos parâmetros de processo na deposição de nitreto de titânio por plasma em gaiola catódica /
por: Daudt, Natália de Freitas., et al.
Publicado em: (2022) -
Estudo da nitretação iônica visando à aplicação em viajantes/
por: Lima, José de Anchieta, et al.
Publicado em: (2022)